La celo havas multajn funkciojn kaj ampleksajn aplikojn en multaj kampoj.La nova ŝpruciga ekipaĵo preskaŭ uzas potencajn magnetojn por spiraligi la elektronojn por akceli la jonigon de argono ĉirkaŭ la celo, kio pliigas la probablecon de kolizio inter la celo kaj argonjonoj,
Pliigu la ŝprucado-rapidecon.Ĝenerale, DC sputtering estas uzata por metala tegaĵo, dum RF-komunika sputtering estas uzata por nekonduktaj ceramikaj magnetaj materialoj.La baza principo estas uzi brilan senŝargiĝon por trafi argonajn (AR) jonojn sur la surfaco de la celo en vakuo, kaj la katjonoj en la plasmo akcelos por rapidi al la negativa elektrodsurfaco kiel la ŝprucita materialo.Ĉi tiu efiko igos la materialon de la celo elflugi kaj deponi sur la substrato por formi filmon.
Ĝenerale, ekzistas pluraj trajtoj de filma tegaĵo uzante la ŝprucprocezon:
(1) Metalo, alojo aŭ izolilo povas esti transformitaj en maldikajn filmajn datumojn.
(2) Sub taŭgaj fiksaj kondiĉoj, la filmo kun la sama komponado povas esti farita el multoblaj kaj senordaj celoj.
(3) La miksaĵo aŭ kunmetaĵo de celmaterialo kaj gasaj molekuloj povas esti faritaj per aldonado de oksigeno aŭ aliaj aktivaj gasoj en la malŝarĝa atmosfero.
(4) La celo eniga fluo kaj sputtering tempo povas esti kontrolita, kaj estas facile akiri alt-precizeca filmo dikeco.
(5) Ĝi estas utila por la produktado de aliaj filmoj.
(6) La ŝprucitaj eroj apenaŭ estas tuŝitaj de gravito, kaj la celo kaj substrato povas esti organizitaj libere.
Afiŝtempo: majo-24-2022