La celo havas multajn efikojn, kaj la merkata disvolva spaco estas granda.Ĝi estas tre utila en multaj kampoj.Preskaŭ ĉiuj novaj ŝprucaj ekipaĵoj uzas potencajn magnetojn al spiralaj elektronoj por akceli la jonigon de argono ĉirkaŭ la celo, rezultigante pliiĝon en la probableco de kolizio inter la celo kaj argonjonoj.Nun ni rigardu la rolon de ŝprucado de celo en vakua tegaĵo.
Plibonigu la ŝprucado-rapidecon.Ĝenerale, DC-ŝprucado estas uzata por metala tegaĵo, dum RF AC-ŝprucado estas uzata por nekonduktaj ceramikaj magnetaj materialoj.La fundamenta principo estas uzi brilan senŝargiĝon por trafi argonajn (AR) jonojn sur la surfaco de la celo en vakuo, kaj la katjonoj en la plasmo akcelos por rapidi al la negativa elektrodsurfaco kiel la ŝprucita materialo.Ĉi tiu efiko igos la materialon de la celo elflugi kaj deponi sur la substrato por formi filmon.
Ĝenerale, ekzistas pluraj karakterizaĵoj de filma tegaĵo per ŝprucprocezo: (1) metalo, alojo aŭ izolilo povas esti transformitaj en filmdatenojn.
(2) Sub taŭgaj fiksaj kondiĉoj, la filmo kun la sama komponado povas esti farita el multoblaj kaj senordaj celoj.
(3) La miksaĵo aŭ komponaĵo de celmaterialo kaj gasaj molekuloj povas esti produktitaj per aldonado de oksigeno aŭ aliaj aktivaj gasoj en la malŝarĝa atmosfero.
(4) La celo eniga fluo kaj sputtering tempo povas esti kontrolita, kaj estas facile akiri alt-precizeca filmo dikeco.
(5) Kompare kun aliaj procezoj, ĝi favoras la produktadon de unuformaj filmoj de granda areo.
(6) La ŝprucitaj partikloj estas preskaŭ netuŝitaj de gravito, kaj la pozicioj de celo kaj substrato povas esti aranĝitaj libere.
Afiŝtempo: majo-17-2022