Nuntempe, mpoŝtelefonoj fariĝis la plej nemalhavebla afero por la publiko, kaj poŝtelefonaj ekranoj fariĝas pli kaj pli altnivelaj.Ampleksa ekrandezajno kaj desegnado de malgrandaj bangoj estas grava paŝo por fari poŝtelefonan LCD.Ĉu vi scias kio ĝi estas— Tegaĵo: uzu magnetronan ŝpructeknologion por ŝpruci metalan molibdenon de molibdena celo al likva kristala vitro.Ĉi tie bmalalta,ĉi tiu artikolo donos al vi specifan enkondukon.
Sputtering, kiel altnivela tekniko por prepari maldikfilmajn datumojn, havas du karakterizaĵojn de "alta rapido" kaj "malalta temperaturo".Ĝi uzas la jonojn produktitajn de la jonfonto por akceli la agregadon kaj integriĝon de altrapida jonfluo en vakuo, bombadi la solidan surfacon, kaj la jonoj interŝanĝas kinetan energion kun la atomoj sur la solida surfaco, tiel ke la atomoj sur la solida. surfaco lasu la celon kaj deponi sur la surfaco de la substrato, kaj tiam formi nano (aŭ mikron) filmon.La senŝeligita solido estas la datumoj de maldikaj filmoj deponitaj per ŝprucado, kiu estas nomita ŝpruccelo.
En la elektronika industrio, molibdenaj sputteraj celoj estas ĉefe uzataj por platpanelaj ekranoj, elektrodoj kaj kablaj materialoj de maldikfilmaj sunaj ĉeloj kaj baraj materialoj de duonkonduktaĵoj.
Ĉi tiuj baziĝas sur la alta fandpunkto, alta kondukteco, malalta specifa impedanco, bona koroda rezisto kaj bona mediprotekta funkcio de molibdeno.
Antaŭe, la kablaj datumoj de plata panela ekrano estis ĉefe kromo, sed kun la grandskala kaj altpreciza ekrano de plata panelo, datumoj pli malgrandaj ol impedanco estas pli kaj pli bezonataj.Krome, mediprotektado ankaŭ estas necesa konsidero.Molibdeno havas la avantaĝon, ke la specifa impedanco kaj filma streso estas nur 1/2 de tiu de kromo, kaj ne ekzistas problemo de media poluado, do ĝi fariĝis unu el la materialoj de sputtering celo por plata ekrano.
Krome, la uzo de molibdeno en LCD-komponentoj povas multe plibonigi la funkciojn de LCD en brileco, kontrasto, koloro kaj servodaŭro.TFT-LCD estas unu el la plej gravaj aplikoj de molibdena sputtering celo en platpanela ekranindustrio.
Merkata esploro montras, ke la venontaj kelkaj jaroj estos la pinto de LCD-disvolviĝo, kun jara kresko-rapideco de ĉirkaŭ 30%.Kun la disvolviĝo de LCD, la konsumo de LCD-sputtering celo ankaŭ kreskas rapide, kun ĉiujara kreskorapideco de ĉirkaŭ 20%.
Krom la profesio de ebena ekrano, kun la disvolviĝo de nova energiprofesio, ankaŭ pliiĝas la apliko de molibdena sputtering celo en maldikfilmaj sunaj fotovoltaikaj ĉeloj.
La molibdeno sputtering celo estas ĉefe sputtered por formi la elektrodan tavolon de CIGS (kupro indio galium selenio) maldika filmo baterio.Mo estas ĉe la fundo de la suna ĉelo.Kiel la malantaŭa tuŝo de la suna ĉelo, ĝi ludas tre gravan rolon en la nukleado, kresko kaj priskribo de CIGS-maldika filmo-kristaloj.
Afiŝtempo: majo-10-2022