1. Magnetrona sputter-metodo:
Magnetrona ŝprucado povas esti dividita en DC-sputtering, mezfrekvencan sputtering kaj RF-sputtering.
A. DC sputtering nutrado estas malmultekosta kaj la denseco de deponita filmo estas malbona.Ĝenerale, hejmaj fototermaj kaj maldikfilmaj baterioj estas uzataj kun malalta energio, kaj la ŝpruccelo estas kondukta metala celo.
B. La RF sputtering energio estas alta, kaj la sputtering celo povas esti ne-kondukta celo aŭ kondukta celo.
C. Mezfrekvenco sputtering celo povas esti ceramika celo aŭ metala celo.
2. Klasifiko kaj aplikado de sputraj celoj
Estas multaj specoj de ŝprucaj celoj, kaj la celklasifikaj metodoj ankaŭ estas malsamaj.Laŭ la formo, ili estas dividitaj en longan celon, kvadratan celon kaj rondan celon;Laŭ la komponado, ĝi povas esti dividita en metalan celon, alojan celon kaj ceramikan kunmetitan celon;Laŭ malsamaj aplikaj kampoj, ĝi povas esti dividita en semikonduktaĵ-rilatajn ceramikajn celojn, registradon de mezaj ceramikaj celoj, montri ceramikajn celojn, ktp. Sputteraj celoj estas ĉefe uzataj en elektronikaj kaj informaj industrioj, kiel inform-stokado-industrio.En ĉi tiu industrio, sputteraj celoj estas uzataj por prepari koncernajn maldikfilmajn produktojn (malmola disko, magneta kapo, optika disko, ktp.).Nuntempe.Kun la kontinua disvolviĝo de informa industrio, la postulo pri registrado de mezaj ceramikaj celoj en la merkato pliiĝas.La esplorado kaj produktado de registraj mezaj celoj fariĝis la fokuso de ampleksa atento.
Afiŝtempo: majo-11-2022