Pogranda CrAlSi Alojo Sputtering Celo Alta Pureco Maldika Filmo Pvd Tegaĵo Propra Farita Fabrikisto kaj Provizanto |Riĉa

Kroma Aluminio Silicio

CrAlSi Alojo Sputtering Celo Alta Pureco Maldika Filmo Pvd Tegaĵo Propra Farita Elstara Bildo

Mallonga priskribo:

Kategorio	Alojo Sputtering Celo
Kemia Formulo	CrAlSi
Komponado	Kroma aluminio-silicio
Pureco	99.9%，99.95%，99.99%
Formo	Platoj，Kolumnaj Celoj，arkaj katodoj，Mediraj
Produktada Procezo	Vakua Fandado, PM
Disponebla Grandeco	L≤1000mm，W≤200mm

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Chronio Aluminio Silicio Sputtering Celo Priskribo

La fabrikado de Chronium Aluminium Silicon Sputtering Targets konsistas el la sekvaj paŝoj:
1.Vacuum fandado de Silicio, Aluminio kaj Kronio por akiri paŝajn alojojn.
2.Powder muelanta kaj miksanta.
3.Hot izostatika premanta traktado por akiri la kroman Aluminio-silician alojon sputtering celon.
Chronium Aluminium Silicon Sputtering Celoj estas vaste uzataj en tranĉaj iloj kaj muldiloj, pro ĝia eluziĝo-rezisto kaj alta temperatura oksidiĝa rezisto por plibonigi la filmon.
Amorfa Si3N4-fazo estus formita dum la procezo de PVD de CrAlSi-celoj.Pro la aliĝo de amorfa Si3N4-fazo, la kresko de la grajna grandeco povus esti bremsita kaj plibonigi la alttemperaturan oksidiĝan reziston.

Chronium Aluminium Silicon Sputtering Cela Pakado

Nia Chronium Aluminium Silicon sputtercelo estas klare etikedita kaj etikedita ekstere por certigi efikan identigon kaj kvalitan kontrolon.Granda zorgo estas prenita por eviti ajnan damaĝon kiu povus esti kaŭzita dum stokado aŭ transportado

Akiru Kontakton

La ŝprucceloj de Chronium Aluminium Silicon de RSM estas de ultra-alta pureco kaj uniformo.Ili haveblas en diversaj formoj, purecoj, grandecoj kaj prezoj.Ni specialiĝas pri produktado de altpuraj maldikaj filmaj tegmaterialoj kun bonega rendimento same kiel la plej alta ebla denseco kaj plej malgrandaj eblaj mezaj grajngrandecoj por uzo en muldila tegaĵo, ornamado, aŭtopartoj, malalta E-vitro, duonkondukta integra cirkvito, maldika filmo. rezisto、grafika ekrano、aerospaco、 magneta registrado、tuŝekrano、maldika filmo suna baterio kaj aliaj fizikaj vapordemetado (PVD) aplikoj.Bonvolu sendi al ni enketon pri aktualaj prezoj pri sputteraj celoj kaj aliaj deponmaterialoj ne listigitaj.

Antaŭa: CrSi Alojo Sputtering Celo Alta Pureco Maldika Filmo Pvd Tegaĵo Propra Farita

Sekva: AlCr Alloy Sputtering Celo Alta Pureco Maldika Filmo Pvd Tegaĵo Propra Farita