Volframsilicido

Volframsilicido WSi2 estas uzata kiel elektra ŝoko materialo en mikroelektroniko, shunting sur polisiliciaj dratoj, kontraŭ-oksida tegaĵo kaj rezista drato tegaĵo.Volframsilicido estas uzata kiel kontakta materialo en mikroelektroniko, kun resistiveco de 60-80μΩcm.Ĝi formiĝas je 1000 °C.Ĝi estas kutime uzata kiel ŝunto por polisiliciaj linioj por pliigi sian konduktivecon kaj pliigi signalrapidecon.La volframa silicida tavolo povas esti preparita per kemia vapordemetado, kiel vapordemetado.Uzu monosilanon aŭ diklorosilanon kaj volframon heksafluoridon kiel krudmaterialon.La deponita filmo estas ne-stoiĥiometria kaj postulas kalson esti transformita en pli konduktan stoiĥiometrian formon.

Volframsilicido povas anstataŭigi la pli fruan volframan filmon.Volframsilicido ankaŭ estas uzata kiel bariera tavolo inter silicio kaj aliaj metaloj.

Volframsilicido ankaŭ estas tre valora en mikroelektromekanikaj sistemoj, inter kiuj volframsilicido estas ĉefe uzata kiel maldika filmo por fabrikado de mikrocirkvitoj.Por tiu celo, la volframsilicidfilmo povas esti plasmogravurita uzante, ekzemple, siliciuro.

Riĉaj Specialaj Materialoj specialiĝas pri Fabrikado de Sputtering Celo kaj povus produkti Tungsten Silicide Sputtering Materialojn laŭ la specifoj de Klientoj.Por pliaj informoj, bonvolu kontakti nin.