Bonvenon al niaj retejoj!

AlTa Sputtering Celo Alta Pureco Maldika Filmo PVD Tegaĵo Propra Farita

Aluminio-Tantalo

Mallonga priskribo:

Kategorio

Alojo Sputtering Celo

Kemia Formulo

AlTa

Komponado

Aluminio-Tantalo

Pureco

99.9%,99.95%,99.99%

Formo

Platoj,Kolumnaj Celoj,arkaj katodoj,Mediraj

Produktada Procezo

Vakua Fandado, PM

Disponebla Grandeco

L≤200mm,W≤200mm


Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

La celoj estas preparitaj per miksado de Aluminio kaj Tantalaj pulvoroj aŭ vakua fandado sekvita de kompaktado al plena denseco.La tiel kompaktigitaj materialoj estas laŭvole sinterigitaj kaj tiam estas formitaj en la deziratan celformon.

Aluminia Tantala sputtering celo havas altan purecon, homogenan mikrostrukturon kaj bonegan konduktivecon.Ĝi estas vaste uzata en la formado de maldikaj filmoj por platpanela ekranindustrio.Aluminio-Tantalo ankaŭ povus esti aldonita por produkti altan rendimentan Titanian alojon por plibonigi ĝian alt-temperaturan taŭgecon.

Malpura enhavo de Al-Ta alojo

komponado

Enhavo%)

Ta

Fe

Si

C

O

AlTa60

55.0~65.0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

AlTa70

65.0~75.0

≤0,05

≤0,02

≤0,01

≤0,05

Riĉaj Specialaj Materialoj specialiĝas pri Fabrikado de Sputtering Celo kaj povus produkti Aluminiajn Tantalajn Sputtering Materialojn laŭ la specifoj de Klientoj.Niaj produktoj havas bonegajn mekanikajn proprietojn, homogenan strukturon, polurita surfacon sen apartigo, poroj aŭ fendoj.Por pliaj informoj, bonvolu kontakti nin.


  • Antaŭa:
  • Sekva: